Controllable synthesis of high quality monolayer WS2 on a SiO2/Si
substrate by chemical vapor deposition
发布时间：2021-07-23 点击次数：次
DOI码：10.1039/c5ra00210a
发表刊物：RSC ADVANCES
通讯作者：向斌
论文编号：000349524700006
卷号：5
期号：21
页面范围：15795-15799
ISSN号：2046-2069
是否译文：否
发表时间：2014-11-30
收录刊物：SCI