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学位：博士
Utilization of Resist Stencil Lithography for Multidimensional Fabrication on a Curved Surface
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发表刊物：ACS nano
合写作者：Cai Hongbing, Meng Qiushi, Ding Huaiyi, Zhang Kun, Lin Yue, Ren Wenzhen, Yu Xinxin, Wu Yukun, Zhang Guanghui, Li Mingling, Pan Nan, Qi Zeming, Tian Yangchao, Luo Yi & Wang Xiaoping
卷号：12
页面范围：9626-9632
是否译文：否
发表时间：2018-01-01