一种钇掺杂氧化锆单晶衬底的处理方法
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所属单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
教研室:二室
申请专利人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明设计人:姚岐,沈大伟, 刘吉山, 李明颖, 刘正太
专利说明:无
备注:无
专利类型:发明
专利状态:专利权的终止
申请号:CN201510258262.2
授权号:CN104882534B
发明人数:5
是否职务专利:是
申请日期:4214-04-01
公开日期:4309-08-01
授权日期:2017-12-29
第一作者:姚岐