沈大伟  (教授)

博士生导师

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办公地点:安徽省合肥市合作化南路42号中国科学技术大学西区5号楼402-3室

学位:博士

学科:物理学

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一种钇掺杂氧化锆单晶衬底的处理方法

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所属单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所

教研室:二室

申请专利人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所

发明设计人:姚岐,沈大伟, 刘吉山, 李明颖, 刘正太

专利说明:

备注:

专利类型:发明

专利状态:专利权的终止

申请号:CN201510258262.2

授权号:CN104882534B

发明人数:5

是否职务专利:

申请日期:4214-04-01

公开日期:4309-08-01

授权日期:2017-12-29

第一作者:姚岐

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