高怀岭
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专利
一种具有微观弯曲层状结构的高分子材料及其制备方法和应用
发布时间：2021-07-24点击次数：
所属单位：
中国科学技术大学
发明设计人：
鲍佳政,高怀岭
专利说明：
发明公开
申请号：
201910768422.6
发明人数：
3
是否职务专利：
否
公开日期：
2019-11-12
第一作者：
俞书宏