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正高级工程师
电子邮箱：
学位：学士
抑制位相掩模垂直光栅矢量方向次生干扰的近场全息动态曝光方法
点击次数：
所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：林达奎,陈火耀,刘正坤,邱克强,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：发明
申请号：201710407545.8
发明人数：8
是否职务专利：否
公开日期：2017-10-20
第一作者：刘颖
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所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：林达奎,陈火耀,刘正坤,邱克强,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：发明
申请号：201710407545.8
发明人数：8
是否职务专利：否
公开日期：2017-10-20
第一作者：刘颖