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正高级工程师
电子邮箱：
学位：学士
一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
点击次数：
所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：夏安东,田杨超,洪义麟,阚娅,陶晓明,胡一贯,张新夷
专利说明：实用新型
申请号：95203680.0
发明人数：8
是否职务专利：否
公开日期：1997-04-02
授权日期：1997-04-02
第一作者：付绍军
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学位：学士
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所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：夏安东,田杨超,洪义麟,阚娅,陶晓明,胡一贯,张新夷
专利说明：实用新型
申请号：95203680.0
发明人数：8
是否职务专利：否
公开日期：1997-04-02
授权日期：1997-04-02
第一作者：付绍军