An improved multi-exposure approach for high quality holographic
femtosecond laser patterning
发布时间：2021-07-23 点击次数：次
影响因子：3.597
DOI码：10.1063/1.4902925
发表刊物：APPLIED PHYSICS LETTERS
通讯作者：胡衍雷
论文编号：000346265200004
卷号：105
期号：22
ISSN号：0003-6951
是否译文：否
发表时间：2014-12-01
收录刊物：SCI