Oxide Coated Cathode Plasma Source of Linear Magnetized Plasma Device
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影响因子：1.358
DOI码：10.1088/1009-0630/18/9/08
发表刊物：PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY
通讯作者：谢锦林
论文编号：000387864900008
卷号：18
期号：9
页面范围：918-923
ISSN号：1009-0630
是否译文：否
发表时间：2016-08-31
收录刊物：SCI