超高真空对靶磁控与离子束溅射镀膜装置
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超高真空磁控溅射系统 此设备由加拿大Angstrom Engineering Inc.公司设计的高真空磁控镀膜机设备，可用于制备金属，氧化物半导体，以及有机物薄膜，并且镀膜温区可以从液氮温度到850 ℃，极限真空可到1*10-5 Pa以下。设备主要包括1个直流溅射源、两个交流溅射源和一个热蒸发源，溅射腔体、真空系统、气路水路系统、电脑控制系统、膜厚测量、加热和制冷系统等。 |
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办公地点：Physics Building, Room 308A
联系方式：63603408
学位：博士
超高真空对靶磁控与离子束溅射镀膜装置
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超高真空磁控溅射系统 此设备由加拿大Angstrom Engineering Inc.公司设计的高真空磁控镀膜机设备，可用于制备金属，氧化物半导体，以及有机物薄膜，并且镀膜温区可以从液氮温度到850 ℃，极限真空可到1*10-5 Pa以下。设备主要包括1个直流溅射源、两个交流溅射源和一个热蒸发源，溅射腔体、真空系统、气路水路系统、电脑控制系统、膜厚测量、加热和制冷系统等。 |
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