中国科学技术大学马锦秀--中文主页-- Control of Beam Energy and Flux Ratio in an Ion-Beam-Background Plasma System Produced in a Double Plasma Device

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Control of Beam Energy and Flux Ratio in an Ion-Beam-Background Plasma System Produced in a Double Plasma Device

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影响因子：1.358
DOI码：10.1088/1009-0630/18/11/04
发表刊物：PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY
通讯作者：马锦秀
论文编号：000387886700004
卷号：18
期号：11
ISSN号：1009-0630
是否译文：否
发表时间：2016-10-31
收录刊物：SCI

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