中国科学技术大学石发展--中文主页-- 一种离子注入设备

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一种离子注入设备

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所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：王鹏飞,丁哲,杜江峰,石发展
专利说明：发明
申请号：201510455853.9
发明人数：5
是否职务专利：否
公开日期：2015-10-14
第一作者：刘钊希

上一条：一种基于金刚石NV色心的微波磁场测量系统