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发明设计人：许国锋

专利说明：本发明公开了一种双重防伪聚合物薄膜的制备方法及其应用，所述聚合物薄膜是通过含液晶基元单体分子与含苯乙烯基芘结构的单体分子共聚后制备获得。本发明聚合物薄膜可以用于制备防伪材料，所述防伪材料通过使用波长范围为400~470纳米的可见光两次写入防伪信息的方式具备双重防伪功能。本发明中，防伪信息在不同掩模板的辅助下经可见光照射分别在表层和深层写入，并且分别通过LED灯激发和偏光显微镜（偏振片）读出表层和深层信息。

申请号：202211307054.3

发明人数：2

是否职务专利：否

申请日期：2022-10-25

第一作者：吴思