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学位：博士
In situ UV nano-imprint lithography alignment using high contrast mark
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影响因子：3.669
DOI码：10.1364/OE.23.018518
发表刊物：OPTICS EXPRESS
通讯作者：王亮
论文编号：000361033900084
卷号：23
期号：14
页面范围：18518-18524
ISSN号：1094-4087
是否译文：否
发表时间：2015-07-13
收录刊物：SCI