一种基于导模干涉的超分辨直写光刻机及其光刻方法
点击次数:
所属单位:中国科学技术大学
发明设计人:张斗国,王向贤,傅强,王沛,明海
专利说明:发明
申请号:201110282032.1
发明人数:6
是否职务专利:否
公开日期:2012-02-15
授权日期:2013-06-26
第一作者:陈漪恺
一种基于导模干涉的超分辨直写光刻机及其光刻方法
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所属单位:中国科学技术大学
发明设计人:张斗国,王向贤,傅强,王沛,明海
专利说明:发明
申请号:201110282032.1
发明人数:6
是否职务专利:否
公开日期:2012-02-15
授权日期:2013-06-26
第一作者:陈漪恺