Design and performance of a new VUV photoemission beamline at Hefei
Light Source
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影响因子：1.468
DOI码：10.1016/j.elspec.2014.01.014
发表刊物：JOURNAL OF ELECTRON SPECTROSCOPY AND RELATED PHENOMENA
第一作者：张国斌
通讯作者：张国斌
论文编号：000345823400006
卷号：196
页面范围：31-33
ISSN号：0368-2048
是否译文：否
发表时间：2014-09-30
收录刊物：SCI
