中国科学技术大学陈杨--中文主页-- 16 nm-resolution lithography using ultra-small-gap bowtie apertures

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16 nm-resolution lithography using ultra-small-gap bowtie apertures

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发表刊物：Nanotechnology
第一作者：Yang Chen,Jin Qin
通讯作者：Jiaru Chu,Xianfan Xu,Liang Wang
卷号：28
期号：5
页面范围：055302
是否译文：否
发表时间：2016-12-13
收录刊物：SCI
发布期刊链接：https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6528/28/5/055302/meta

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