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正高级工程师
电子邮箱：
学位：学士
一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置
点击次数：
所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：邱克强,刘正坤,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：发明公开
申请号：201910044200.X
发明人数：6
是否职务专利：否
公开日期：2019-03-29
第一作者：周腾
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学位：学士
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所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：邱克强,刘正坤,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：发明公开
申请号：201910044200.X
发明人数：6
是否职务专利：否
公开日期：2019-03-29
第一作者：周腾