刘正坤
刘正坤
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专利
抑制位相掩模垂直光栅矢量方向次生干扰的近场全息动态曝光方法
发布时间：2021-07-24点击次数：
所属单位：
中国科学技术大学
发明设计人：
林达奎,陈火耀,刘正坤,邱克强,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：
发明
是否职务专利：
否
公开日期：
2017-10-20
第一作者：
刘颖