刘正坤
刘正坤
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专利
一种平面基底变间距光栅的线密度测试系统及测试方法
发布时间：2021-07-24点击次数：
所属单位：
中国科学技术大学
发明设计人：
林达奎,刘颖,陈火耀,洪义麟
专利说明：
发明公开
申请号：
201910501496.3
发明人数：
5
是否职务专利：
否
公开日期：
2019-08-27
第一作者：
刘正坤