刘正坤
刘正坤
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专利
一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置
发布时间：2021-07-24点击次数：
所属单位：
中国科学技术大学
发明设计人：
邱克强,刘正坤,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：
实用新型
是否职务专利：
否
公开日期：
2019-08-27
授权日期：
2019-08-27
第一作者：
周腾