DPS-LIM型高真空对靶磁控与离子束溅射镀膜装置
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本设备可用于开发纳米级的单层及多层功能膜——各种硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜，铁磁膜等材料，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。本系统主要由溅射室，离子束室，磁控溅射强磁靶、永磁靶各一个，直流溅射电源，射频溅射电源，样品转台，加热炉，离子枪，转靶（四个），泵抽系统，磁力传递送样机构，真空测量系统，气路系统，电控系统，水压报警系统和微观控制镀层系统等组成。
技术指标：
系统极限真空：1×10-4 Pa
RF射频电源：500 W
DC直流电源：500 W
加热控温电源：800 ℃
技术指标：
系统极限真空：1×10-4 Pa
RF射频电源：500 W
DC直流电源：500 W
加热控温电源：800 ℃