脉冲激光沉积(PLD)镀膜系统
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脉冲激光沉积（Pulsed laser deposition, PLD）利用激光的高能量密度将部分靶材蒸发甚至电离，使其脱离靶材进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术具有几大优点：
一，激光能量高，可用于溅射各种难熔材料，而且不同成分全部溅射，可以得到与靶材成分一致的多元化合物薄膜；
二，溅射既可在真空下也可在较高环境气压下进行，适合生长复杂的氧化物薄膜和各种不同性质的材料；
三，激光源、靶、衬底相互独立，可分别控制。
因此，其应用范围最为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚
一，激光能量高，可用于溅射各种难熔材料，而且不同成分全部溅射，可以得到与靶材成分一致的多元化合物薄膜；
二，溅射既可在真空下也可在较高环境气压下进行，适合生长复杂的氧化物薄膜和各种不同性质的材料；
三，激光源、靶、衬底相互独立，可分别控制。
因此，其应用范围最为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚