同步辐射光源是电子在磁场中高速运动时，沿切线方向释放出的一种高亮度、高准直性的电磁辐射，具有高强度、高亮度、高相干性以及良好的稳定性等优点，能够为光刻系统提供稳定且符合光刻需求的照明光源。

光束线引出同步辐射对实验站提供均匀的照明与光瞳填充，实验站包括照明系统、两个非球面反射镜构成的投影系统、掩模版、掩模与晶圆位移台以及超洁净真空室等关键部件。可实现空间分辨小于10nm 的图形转移，单次曝光面积为平方微米量级，是一个简化版的极紫外投影式光刻技术验证平台。利用该平台，可围绕极紫外光刻材料、关键元件、系统装调及光刻工艺,开展极紫外光刻技术研发与验证。