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发明设计人：姜佳伟

专利说明：本发明公开了一种高力学强度和高分辨率的纳米压印光刻胶及其喷墨打印方法。本发明纳米压印光刻胶主要针对喷墨打印与纳米压印技术的兼容性以及半导体领域中的高精度制造进行设计，在经过筛选与调配后，可以由喷墨打印头按需分配光刻胶液滴，快速打印所需图案，最后通过纳米压印光刻机曝光实现50  nm的高分辨率压印。与现有技术中的纳米压印光刻胶相比，本发明的纳米压印光刻胶具有可快速喷墨打印、固化速率快、优异的抗氧阻聚性能、高力学强度、高分辨率和易于脱模等优点。

申请号：202510103977.4

发明人数：2

是否职务专利：否

申请日期：2025-01-23

第一作者：吴思