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发明设计人：徐木欢

专利说明：本发明公开了一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用。本发明采用一步简单的开环易位聚合法制备了偶氮苯聚合物，赋予其优异的热稳定性和光稳定性，能够在高温和太阳光照射条件下保持其卓越的性能。与传统纳米压印光刻胶相比，本发明纳米压印光刻胶在纳米压印过程中具有更高的稳定性和精度，能有效减少压印的图案失真、模糊等问题，保证了纳米结构转印的准确性。在提高成品质量和生产效率的同时，降低了制造过程中的不确定性和成本。

申请号：202510127163.4

发明人数：2

是否职务专利：否

申请日期：2025-01-31

第一作者：吴思