中国科学技术大学 wangliang--Home-- 基于纳米压印光刻的金属图案转移方法以及系统

王亮

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基于纳米压印光刻的金属图案转移方法以及系统

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Affilication of Author(s):中国科学技术大学

Disigner of the Invention:wangliang,杨目奕

Patent description:发明公开

Application Number:201811375184.4

Number of Inventors:3

Service Invention or Not:no

Publication Date:2019-02-15

First Author:许凯

Pre One:待光刻基板、光刻模板、近场扫描光刻方法及装置

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