中国科学技术大学 wangliang--Home-- 待光刻基板、光刻模板、近场扫描光刻方法及装置

王亮

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待光刻基板、光刻模板、近场扫描光刻方法及装置

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Affilication of Author(s):中国科学技术大学

Disigner of the Invention:秦金,罗慧雯

Patent description:发明公开

Application Number:201910063140.6

Number of Inventors:3

Service Invention or Not:no

Publication Date:2019-04-19

First Author:wangliang

Pre One:一种长工作距离的等离激元纳米光刻方法

Next One:基于纳米压印光刻的金属图案转移方法以及系统