中国科学技术大学温晓镭--中文主页-- Versatile Approach of Silicon Nanofabrication without Resists: Helium Ion-Bombardment Enhanced Etching.

论文成果当前位置：中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

Versatile Approach of Silicon Nanofabrication without Resists: Helium Ion-Bombardment Enhanced Etching.

点击次数：
发表刊物：Nanomaterials
论文类型：期刊论文
文献类型：J
卷号：12
期号：19
页面范围：3269
是否译文：否
发表时间：2022-09-20
收录刊物：SCI

上一条： Enhancement of silicon sub-bandgap photodetection by helium-ion implantation

下一条： Maskless Generation of Single Silicon Vacancy Arrays in Silicon Carbide by a Focused He+ Ion Beam