铜铟镓硒纳米线阵列及其制备方法与应用
点击次数：
所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：张中伟,刘伟丰
专利说明：发明
申请号：200910236576.7
发明人数：3
是否职务专利：否
公开日期：2010-05-05
授权日期：2012-07-18
第一作者：朱长飞
电子邮箱：
职务：对外联络与基金事务处分管校领导
联系方式：0551-63600578O), 0551-63600415(Lab);
学位：博士
铜铟镓硒纳米线阵列及其制备方法与应用
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所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：张中伟,刘伟丰
专利说明：发明
申请号：200910236576.7
发明人数：3
是否职务专利：否
公开日期：2010-05-05
授权日期：2012-07-18
第一作者：朱长飞