一种均质打印和非均质打印结合装置
点击次数：
所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：马灿臻,李佳洛,刘光丽,陈虹宇,黄奎明,董二宝
专利说明：实用新型申请
申请号：201920771738.6
发明人数：7
是否职务专利：否
第一作者：申书伟
电子邮箱：
办公地点：中国科学技术大学西区力五楼707A
学位：博士
毕业院校：中国科学技术大学
学科：仪器科学与技术
机械工程
一种均质打印和非均质打印结合装置
点击次数：
所属单位：中国科学技术大学
发明设计人：马灿臻,李佳洛,刘光丽,陈虹宇,黄奎明,董二宝
专利说明：实用新型申请
申请号：201920771738.6
发明人数：7
是否职务专利：否
第一作者：申书伟