温晓镭，女，1986年生，安徽合肥人，中国科学技术大学高级工程师。主要从事半导体先进制造相关技术研究，开发基于纳米光刻和聚焦离子束的极端精度微纳加工技术。在Small Methods、Advanced Materials Interfaces、ACS Photonics 等国内外期刊发表论文20余篇，授权发明专利10余项。

• [1]. 2011.9 -- 2013.9

  Purdue University       Mechanical Engineering      CSC公派留学

• [2]. 2008.9 -- 2014.6

  中国科学技术大学       光学       博士研究生毕业       博士

• [1]. 2014.8 -- 至今

  中国科学技术大学

• [1] 同步辐射干涉光刻
• [2] 先进微纳加工技术
• [3] 微纳光学元件

• [3] 通讯/办公地址 : 3bc7694115004f8f201d8f9830a6da4b047d85fbb613ca60fb5cbfb6171b9c38db570f6f6099ce4b83e34d0ca0503d5ef80645e2ea12ce1540ef8065523303433c27a3f119193ea4441ffac3abff3cfc599dfd93739f1a2750d4857ce4a32fda6e8b0c8e03dc1b20de0080a4f3dbca2f3c7dda2a9173e48537fc9fc712b8224a
• [6] 邮箱 : 3141f683834097620c7f1754cb6ed2854f9deecd91567e3dff90670d0e90c93fc8013079da74fac37f0caba37327803c52da6921ea0aa3fa4a04706c1345c9d3f18f142c855fcc4c96531fc6a458cba02b14eac0c44fde012a42b15062d52a340c6aa132de57e8e7505ebeb861f8fe0da1d09b101b87c69193961978e0d5b2c2