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柳东溶
YOO DONGYOUNG（韩国籍），现任中国科学技术大学科技史与科技考古系特任副研究员。主要研究方向为文化遗产保护，重点开展传统书画装裱修复工艺、传统手工纸科学特性表征分析研究。主讲研究生专业课程《传统书画装裱与修复工艺》，持有文化遗产修理技能资格证《书画装裱》。
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教育经历 【查看更多】
2017.9 - 2024.6
中国科学技术大学
科学技术史
博士
研究生
2014.9 - 2016.6
北京大学
文物与博物馆学
硕士
研究生
2006.3 - 2012.2
Hanseo Universtiy
文化遗产保存科学
学士
本科
工作经历 【查看更多】
2026.7 - 至今
中国科学技术大学
科技史与科技考古系
特任副研究员
2024.7 - 2026.6
中国科学技术大学
科学技术史博士后流动站
博士后研究员
2012.3 - 2014.8
中国国家博物馆
文物科技保护部书画修复室
实习生
基本信息
研究方向
社会兼职
暂无内容
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