刘正坤
刘正坤
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专利
一种旋转刻蚀角度来刻蚀光栅槽型的方法
发布时间：2021-07-23点击次数：
所属单位：
中国科学技术大学
发明设计人：
吴丽翔,邱克强,刘正坤,付绍军
专利说明：
发明
是否职务专利：
否
公开日期：
2016-02-17
授权日期：
2017-12-22
第一作者：
曾思为