刘正坤
刘正坤
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专利
一种变间距光栅的近场全息-离子束刻蚀制备方法
发布时间：2021-07-23点击次数：
所属单位：
中国科学技术大学
发明设计人：
李媛芳,刘正坤,陈火耀,邱克强,徐向东,洪义麟,付绍军
专利说明：
发明
是否职务专利：
否
公开日期：
2016-03-16
授权日期：
2017-11-24
第一作者：
刘颖