中国科学技术大学陈宇航--中文主页-- Measuring stiffness and residual stress of thin films by contact resonance atomic force microscopy

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

Measuring stiffness and residual stress of thin films by contact resonance atomic force microscopy

点击次数：

DOI码：10.7567/APEX.9.116601

发表刊物：APPLIED PHYSICS EXPRESS

通讯作者：陈宇航

论文编号：000386046600001

卷号：9

期号：11

ISSN号：1882-0778

是否译文：否

发表时间：2016-10-31

收录刊物：SCI

上一条： Fabrication and characterization of areal roughness specimens for applications in scanning probe microscopy

下一条： Detection of subsurface cavity structures using contact-resonance atomic force microscopy

陈宇航 (副教授)