中国科学技术大学罗毅--中文主页-- Wafer scale fabrication of highly dense and uniform array of sub-5 nm nanogaps for surface enhanced Raman scatting substrates

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Wafer scale fabrication of highly dense and uniform array of sub-5 nm nanogaps for surface enhanced Raman scatting substrates

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影响因子：3.669
DOI码：10.1364/OE.24.020808
发表刊物：OPTICS EXPRESS
通讯作者：罗毅
论文编号：000386091300087
卷号：24
期号：18
页面范围：20808-20815
ISSN号：1094-4087
是否译文：否
发表时间：2016-09-05
收录刊物：SCI

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